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            材料現(xiàn)代分析方法第一章習(xí)題答案

            更新時(shí)間:2023-10-27 07:20:54 閱讀: 評(píng)論:0

            鐵面無(wú)私的近義詞-花甲之年祝福語(yǔ)

            材料現(xiàn)代分析方法第一章習(xí)題答案
            2023年10月27日發(fā)(作者:生產(chǎn)計(jì)劃)

            .. .. .. ..

            第一章

            1. X射線學(xué)有幾個(gè)分支?每個(gè)分支的研究對(duì)象是什么?

            答:X射線學(xué)分為三大分支X射線透射學(xué)、X射線衍射學(xué)、X射線光譜學(xué)。

            X射線透射學(xué)的研究對(duì)象有人體,工件等,用它的強(qiáng)透射性為人體診斷傷病、用于探測(cè)

            工件內(nèi)部的缺陷等。

            X射線衍射學(xué)是根據(jù)衍射花樣,在波長(zhǎng)已知的情況下測(cè)定晶體結(jié)構(gòu),研究與結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)

            變化的相關(guān)的各種問(wèn)題。

            X射線光譜學(xué)是根據(jù)衍射花樣,在分光晶體結(jié)構(gòu)已知的情況下,測(cè)定各種物質(zhì)發(fā)出的X

            射線的波長(zhǎng)和強(qiáng)度,從而研究物質(zhì)的原子結(jié)構(gòu)和成分。

            2. 試計(jì)算當(dāng)管電壓為50 kV時(shí),X射線管中電子擊靶時(shí)的速度與動(dòng)能,以及所發(fā)射的連續(xù)

            譜的短波限和光子的最大能量是多少?

            解:已知條件:U=50kV

            電子靜止質(zhì)量:m=9.1×10kg

            0

            -31

            光速:c=2.998×10m/s

            8

            電子電量:e=1.602×10C

            -19

            普朗克常數(shù):h=6.626×10J.s

            -34

            電子從陰極飛出到達(dá)靶的過(guò)程中所獲得的總動(dòng)能為:

            E=eU=1.602×10C×50kV=8.01×10kJ

            -19-18

            由于E=1/2mv

            00

            2

            所以電子擊靶時(shí)的速度為:

            v=(2E/m)=4.2×10m/s

            00

            1/26

            所發(fā)射連續(xù)譜的短波限λ的大小僅取決于加速電壓:

            0

            λ?)=12400/U() 0.248?

            0

            輻射出來(lái)的光子的最大動(dòng)能為:

            Ehvhc/λ1.99×10J

            00

            -15

            3. 說(shuō)明為什么對(duì)于同一材料其λK<λKβ<λKα?

            :導(dǎo)致光電效應(yīng)的X光子能量=將物質(zhì) K電子移到原子引力范圍以外所需作的功

            hV = W

            kk

            kα 為例:

            hV = E E

            kLk

            α

            參考.資料

            .. .. .. ..

            = W W

            kL

            = hV hV

            k L

            h V > h V

            k k

            α

            ∴λk<λkα

            kβ 為例:

            h V = E E

            k Mk

            β

            = W W

            kM

            =h V h V

            kM

            h V > h V

            kk

            β

            λk<λkβ

            E E < E E

            LkMk

            hV < h V

            k k

            αβ

            ∴λkβ < λkα

            4. 如果用CuX光管照相,錯(cuò)用了Fe濾片,會(huì)產(chǎn)生什么現(xiàn)象?

            答:CuK,K, K線都穿過(guò)來(lái)了,沒(méi)有起到過(guò)濾的作用

            ααβ

            12

            5. 特征X射線與熒光X射線的產(chǎn)生機(jī)理有何不同?某物質(zhì)的K系熒光X射線波長(zhǎng)是否等

            于它的K系特征X射線波長(zhǎng)?

            答:特征X射線與熒光X射線都是由激發(fā)態(tài)原子中的高能級(jí)電子向低能級(jí)躍遷時(shí),多余能

            量以X射線的形式放出而形成的。不同的是:高能電子轟擊使原子處于激發(fā)態(tài),高能級(jí)電

            子回遷釋放的是特征X射線;以 X射線轟擊,使原子處于激發(fā)態(tài),高能級(jí)電子回遷釋放的

            是熒光X射線。某物質(zhì)的K系特征X射線與其K系熒光X射線具有相同波長(zhǎng)

            6. 連續(xù)譜是怎樣產(chǎn)生的?其短波限 與某物質(zhì)的吸收限 有何不同(V

            Vkv為單位)?

            K

            答:當(dāng)X射線管兩極間加高壓時(shí),大量電子在高壓電場(chǎng)的作用下,以極高的速度向陽(yáng)極轟

            擊,由于陽(yáng)極的阻礙作用,電子將產(chǎn)生極大的負(fù)加速度。根據(jù)經(jīng)典物理學(xué)的理論,一個(gè)帶負(fù)

            電荷的電子作加速運(yùn)動(dòng)時(shí),電子周?chē)碾姶艌?chǎng)將發(fā)生急劇變化,此時(shí)必然要產(chǎn)生一個(gè)電磁波,

            或至少一個(gè)電磁脈沖。由于極大數(shù)量的電子射到陽(yáng)極上的時(shí)間和條件不可能相同,因而得到

            的電磁波將具有連續(xù)的各種波長(zhǎng),形成連續(xù)X射線譜。

            在極限情況下,極少數(shù)的電子在一次碰撞中將全部能量一次性轉(zhuǎn)化為一個(gè)光量子,這個(gè)

            光量子便具有最高能量和最短的波長(zhǎng),即短波限。連續(xù)譜短波限只與管壓有關(guān),當(dāng)固定管

            參考.資料

            .. .. .. ..

            壓,增加管電流或改變靶時(shí)短波限不變

            原子系統(tǒng)中的電子遵從泡利不相容原理不連續(xù)地分布在K,L,M,N等不同能級(jí)的殼層上,

            當(dāng)外來(lái)的高速粒子(電子或光子)的動(dòng)能足夠大時(shí),可以將殼層中某個(gè)電子擊出原子系統(tǒng)之

            外,從而使原子處于激發(fā)態(tài)。這時(shí)所需的能量即為吸收限,它只與殼層能量有關(guān)。即吸收

            限只與靶的原子序數(shù)有關(guān),與管電壓無(wú)關(guān)

            7. 試計(jì)算鉬的K激發(fā)電壓,已知鉬的λ0.0619nm。欲用MoX光管激發(fā)Cu的熒光

            K

            X射線輻射,所需施加的最低管電壓是多少?激發(fā)出的熒光輻射波長(zhǎng)是多少?

            解:(1) 由公式λ1.24/U

            KK

            對(duì)鉬U1.24/λ1.24/0.0619=20(kV)

            KK

            λU=6.626×10×2.998×10/(1.602×10×0.71×10)=17.46(kV)

            k

            -348-19-10

            λ

            0k

            =1.24/U(nm)=1.24/17.46(nm)=0.071(nm)

            其中 h為普郎克常數(shù),其值等于6.626×10c為光速,等于2.998×10m/se為電子電

            -34 8

            荷,等于1.602×10c;Mo的λα=0.71×10

            -19-10

            故需加的最低管電壓應(yīng)≥17.46(kV),所發(fā)射的熒光輻射波長(zhǎng)是0.071nm

            8.X射線與物質(zhì)相互作用有哪些現(xiàn)象和規(guī)律?利用這些現(xiàn)象和規(guī)律可以進(jìn)行哪些科學(xué)研

            究工作,有哪些實(shí)際應(yīng)用?

            X射線照射固體物質(zhì),可產(chǎn)生散射X射線、光電效應(yīng)、俄歇效應(yīng)等①光電效應(yīng):當(dāng)入射X

            射線光子能量大于等于某一閾值時(shí),可擊出原子內(nèi)層電子,產(chǎn)生光電效應(yīng)。

            應(yīng)用:光電效應(yīng)產(chǎn)生光電子,是X射線光電子能譜分析的技術(shù)基礎(chǔ)。光電效應(yīng)使原子產(chǎn)生

            空位后的退激發(fā)過(guò)程產(chǎn)生俄歇電子或X射線熒光輻射是X射線激發(fā)俄歇能譜分和X射線熒

            光分析方法的技術(shù)基礎(chǔ)。

            ②二次特征輻射(X射線熒光輻射):當(dāng)高能X射線光子擊出被照射物質(zhì)原子的內(nèi)層電子

            后,較外層電子填其空位而產(chǎn)生了次生特征

            X射線(稱(chēng)二次特征輻射)。

            應(yīng)用:X射線散射時(shí),產(chǎn)生兩種現(xiàn)象:相干散射和非相干散射。相干散射是X射線衍射分

            析方法的基礎(chǔ)。

            9. 計(jì)算lmm厚的Pb對(duì)MoK的透射因數(shù)。

            α

            解:透射因數(shù)I/I=e

            0

            -

            μmρx

            其中μm:質(zhì)量吸收系數(shù)/cm2g-1,ρ:密度/gcm-3

            x:厚度/cm,本題ρ=11.34gcmx=0.1cm

            Pb

            -3

            對(duì)MoK,查表得=141cmg

            α

            μ

            m

            2-1

            其透射因數(shù):I/I= e =e=3.62×e=

            0

            --14111.340.1-70

            μmρx

            ××

            1.352?10

            ?12

            10. 試計(jì)算含W0.8%,W4%,W18%的高速鋼對(duì)MoK輻射的質(zhì)量吸收系數(shù)。

            Ccrw

            α

            解:+ω

            μμμμ

            m1m12m2imi

            參考.資料

            .. .. .. ..

            ω, ω……ω為各元素的質(zhì)量百分?jǐn)?shù),而……為各元素的質(zhì)量吸收系數(shù),i

            12im1m2mi

            μμμ

            為組分元素?cái)?shù)目。

            查表得=0.7cmg=30.4cmg=105.4cmg=38.3cmg

            μμμμ

            CCrWFe

            2-12-12-12-1

            μ

            m

            =0.8%×0.704%×30.418%×105.410.8%-4%-18%)×38.3=49.7612cm

            2

            g

            -1

            11. 畫(huà)Fe2B010點(diǎn)Fe2B點(diǎn)數(shù)

            a=b=0.510nm,c=0.424nm

            12. 為什么衍射線束的方向與晶胞的形狀和大小有關(guān)?

            答: 由干涉指數(shù)表達(dá)的布拉格方程2dhkl sin = n可知,它反映了衍射線束的方向θ、波長(zhǎng)

            λ與晶面間距d之間的關(guān)系,而晶胞參數(shù)決定著晶面間距,所以衍射線束的方向與晶胞的形

            狀和大小有關(guān)。

            α輻射(λ=0.154 nm)照射Ag(屬于面心立方點(diǎn)陣)樣品,測(cè)得第一衍射峰的位

            2θ=38°,試求Ag樣品第一衍射峰的d值和Ag的點(diǎn)陣常數(shù)。

            解: 根據(jù)布拉格方程:2dsinθ=λ。 由于Ag屬于面心立方點(diǎn)陣,根據(jù)面心立方點(diǎn)陣的消

            光規(guī)律:HKL同奇同偶不消光,可知:其第

            一衍射峰為(111)衍射。

            由面心立方晶格的晶面間距公式1/d2HKL=(H2+K2+L2)/a2

            所以Ag的點(diǎn)陣常數(shù)a=1.732*0.154/2*sin19°

            14.試用厄瓦爾德圖解來(lái)說(shuō)明德拜衍射花樣的形成。

            答: 樣品中各晶粒的同名(HKL)面倒易點(diǎn)集合成倒易球面,倒易球與反射球相交為一

            圓環(huán)。晶粒各同名HKL面的衍射線以入射線為軸、2θ為半錐角構(gòu)成衍射圓錐。不同HKL

            面的衍射角2θ不

            同,構(gòu)成不同的衍射圓錐,但各衍射圓錐共頂。用卷成圓柱狀并與樣品同軸的底片記錄衍射

            信息,獲得的衍射花樣是衍射弧。

            15. 試述原子散射因數(shù)f和結(jié)構(gòu)因數(shù)的物理意義。結(jié)構(gòu)因數(shù)與哪些因素有關(guān)系?

            F

            HKL

            答:式中結(jié)構(gòu)振幅F=A/A=一個(gè)晶胞的相干散射振幅/一個(gè)電 子的相干散射振幅

            HKLbe

            結(jié)構(gòu)因數(shù)表征了單胞中原子種類(lèi),原子數(shù)目,位置對(duì)(HKL)晶面方向上衍射強(qiáng)度的影響。

            結(jié)構(gòu)因數(shù)只與原子的種類(lèi)以及在單胞中的位置有關(guān),而不受單胞的形狀和大小的影響。

            16.當(dāng)體心立方點(diǎn)陣的體心和頂點(diǎn)原子種類(lèi)不同時(shí),關(guān)于H+K+L=偶數(shù)時(shí),衍射存在,奇數(shù)

            時(shí),衍射相消的結(jié)論是否仍成立?

            答:所謂體心立方,是點(diǎn)陣型式的一種。每個(gè)由晶體結(jié)構(gòu)抽出的點(diǎn)陣點(diǎn),一是要滿足點(diǎn)陣

            的定義,二是要求在晶體結(jié)構(gòu)中(點(diǎn)陣結(jié)構(gòu))所處的環(huán)境一致。

            參考.資料

            2

            .. .. .. ..

            氯化銫晶胞中,頂點(diǎn)(氯離子)和體心(銫離子)本身和環(huán)境均不相同,所以二者不能同

            時(shí)作為點(diǎn)陣點(diǎn),因此當(dāng)然不能是體心立方點(diǎn)陣。只能將其中同一類(lèi)的離子(或氯離子,或銫

            離子)位置看成點(diǎn)陣點(diǎn),這樣每個(gè)點(diǎn)陣點(diǎn)是完全一樣的,才符合點(diǎn)陣定義。這時(shí)的點(diǎn)陣型式

            是簡(jiǎn)單立方。每個(gè)點(diǎn)陣點(diǎn)所代表的內(nèi)容均是一個(gè)氯離子和一個(gè)銫離子。

            17.在試用簡(jiǎn)單立方(a=0.300nm)結(jié)構(gòu)的物質(zhì)所攝得的粉末圖樣上,確定其最初三根線條

            (即最低的2θ值)的2θ與晶面指數(shù)(HKL)。入射用Cu-Kα(λKα=0.154 nm)。

            解: 由于簡(jiǎn)單立方的消光規(guī)律是:HKL為任意整數(shù)時(shí)都能產(chǎn)生衍射,所以其最初三根線

            條的晶面指數(shù)

            為(100)、(110)和(111);

            根據(jù)晶面間距公式d=a/(H2+K2+L2)1/2

            d(100)=0.300nmd(110)=0.212nmd(111)=0.173nm 又根據(jù)布拉格方程:2dsinθ=λ,得

            到:sinθ=λ/2d 所以θ(100)=14.87°,2θ(100)=29.75°; θ(110)=21.28°,2θ

            (110)=42.57°; θ(111)=26.40°,2θ(111)=52.80°。

            18.寫(xiě)出簡(jiǎn)單P點(diǎn)陣,體心I點(diǎn)陣,面心F點(diǎn)陣的系統(tǒng)消光規(guī)律以及他們第一條衍射線的干

            涉指數(shù)。

            答: 點(diǎn)陣類(lèi)型 產(chǎn)生系統(tǒng)消光 第一條衍射線的干涉指數(shù)

            簡(jiǎn)單P點(diǎn)陣 無(wú) 100

            體心I點(diǎn)陣 H+K+L為奇數(shù) 110

            面心F點(diǎn)陣 HKL奇偶混雜 111

            底心點(diǎn)陣 HK奇偶混雜 001

            參考.資料

            .. .. .. ..

            19. 物相定性分析的原理是什么?對(duì)食鹽進(jìn)行化學(xué)分析和物相定性,所得的信息有何不

            同?

            答(1)物相定性分析的原理:①每一種物相都產(chǎn)生自己特有的衍射花樣,兩種物相不會(huì)給

            出完全相同的衍射花樣。②多相試樣的衍射花樣是各自相衍射花樣的機(jī)械疊加,互不干擾。

            ③若以面間距(d)和衍射強(qiáng)度(I)表征衍射花樣,d-I數(shù)據(jù)組就是鑒別物相的基本依據(jù)。

            2)對(duì)食鹽進(jìn)行化學(xué)分析所得到的信息是組成物質(zhì)的元素種類(lèi),如NaCl等及其含量,

            卻不能說(shuō)明其存在狀態(tài),也不能說(shuō)明其是何種晶體結(jié)構(gòu),因?yàn)橥N元素雖然成分不發(fā)生變化,

            但可以不同晶體狀態(tài)存在,對(duì)化合物更是如此。對(duì)食鹽進(jìn)行物相定性所得到的信息不是試樣

            的化學(xué)成分,而是由各種元素組成的具有固定結(jié)構(gòu)的物相,比如NaCl物相。

            20.計(jì)算結(jié)構(gòu)因數(shù)時(shí),基點(diǎn)的選擇原則是什么?如計(jì)算體心立方點(diǎn)陣,選擇0,0,01,1,0

            0,1,0)與(1,0,0)四個(gè)原子是否可以?如計(jì)算面心立方點(diǎn)陣,選擇(0,0,0)、(1,1,0)、

            0,1,0)與(1,0,0)四個(gè)原子是否可以?

            答(1)計(jì)算結(jié)構(gòu)因數(shù)時(shí),基點(diǎn)的選擇原則是: ①個(gè)數(shù)一致:晶胞中選取基點(diǎn)的個(gè)數(shù)必須與

            晶胞中含有的原子個(gè)數(shù)相一致。 ②位置各異:在基點(diǎn)的選擇時(shí)應(yīng)選擇不同位置上的特征點(diǎn),

            相交于一點(diǎn)的面屬于相異點(diǎn),平行面屬于同位置點(diǎn),故面心點(diǎn)一般取3個(gè),頂點(diǎn)取1個(gè),體

            心點(diǎn)取1個(gè)。

            2)所以在計(jì)算體心立方點(diǎn)陣時(shí),由于體心晶胞含有兩個(gè)原子,所以基點(diǎn)個(gè)數(shù)為兩個(gè),根

            據(jù)位置各異原則,原子坐標(biāo)為0,0,01/2,1/2,1/2而選擇0,0,01,1,00,1,0

            與(1,0,0)四個(gè)原子是不可以的,它們是一個(gè)簡(jiǎn)單立方點(diǎn)陣,且基點(diǎn)位置不是各異的。

            3)計(jì)算面心立方點(diǎn)陣時(shí),由于面心晶胞含有四個(gè)原子,所以基點(diǎn)個(gè)數(shù)為四個(gè),根據(jù)位置

            各異原則,原子坐標(biāo)為0,0,01/2,1/2,01/2,0,1/20,1/2,1/2而選擇0,0,0

            1,1,0)、0,1,0)與(1,0,0)四個(gè)原子是不可以的,它們是一個(gè)簡(jiǎn)單立方點(diǎn)陣,且基點(diǎn)位

            置不是各異的。

            參考.資料

            .. .. .. ..

            參考.資料

            口算除法教案-嬰兒側(cè)睡

            材料現(xiàn)代分析方法第一章習(xí)題答案

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