2024年3月1日發(作者:春節的由來100字)

用于玻璃和塑料基底上的增透膜
在眾多的光學系統中,一個相當重要的組成部分是鏡片上能降低反射的鍍膜。在很多應用領域中,增透膜是不可缺少的,否則,無法達到應用的要求。
就拿一個由18塊透鏡組成的35mm的自動變焦的照相機來說,假定每個玻璃和空氣的界面有4%的反射,沒有增透的鏡頭光透過率為27%,鍍有一層膜(剩余的反射為1.3%)的鏡頭光透過率為66%,鍍多層膜(剩余的反射為0.5%)的為85%。
在這篇文章中,列舉了一些簡單的增透膜和使用的材料。值得注意的是由于玻璃可以被高溫加熱,而塑料不能,因此,對玻璃和塑料必須選用不同的膜料和膜層設計。
用于玻璃基底的增透膜
經典的單層增透膜由一薄層MgF2構成,MgF2在510nm時的折射率為n=1.38,需要的膜厚為d=92nm。因此,在510nm波長時膜層有一個光學密度(厚度)n*d為1/4的波長。鍍在加熱到250-300°C的玻璃基底上的MgF2,不但牢固,穩定,并且相當方便,經濟,直接使用蒸發船便可。
想得到更低的反射率,最簡單的方法是鍍一層CeF3和一層MgF2(各為1/4的光學厚度),可用蒸發船。圖1是單層和2層膜的反射曲線。2層膜的優點是在可見光范圍的中段有更低的反射率,缺點在于在紅,藍端的反射率上升過快。
由于2層膜的效果不理想,為了達到理想的效果,必須使用3層或多層膜。
經典的3層膜由一層1/4光學厚度的中折射率物質(1.6-1.7),一層1/2光學厚度的高折射率物質
(2.0-2.2)和一層1/4光學厚度的低折射率物質組成。最常用的是Al2O3,ZrO2和MgF2。圖1顯示
在整個光學敏感段(410-680nm)的反射率低于0.5%。
3層增透膜的膜料選擇
膜料對膜層效果有決定性的影響。除了理想的折射率,每次鍍膜時穩定的折射率,均勻的膜層,低吸收性,牢固性,穩定性也非常重要。
MgF2是最常用的第三層低折射率物質。但是,由于塑料不能被高溫加熱,用MgF2會使膜層變軟和不穩定,此時,SiO2是最佳的選擇。
Al2O3是最常用的第一層中折射率物質。它的膜層從紅外到紫外線有相當高的透過率,十分牢固,穩定,并且每次鍍膜時有穩定的折射率。
ZrO2通常被用作第二層高折射率物質。它的優點是從250到7000nm有寬廣的透過率,并且,膜層牢固,穩定。但是,每次鍍膜時呈現不同的折射率,也就是折射率會隨著膜厚的增加而降低,這種現象可能和它的特殊晶體結構有關。圖2顯示了在五個單獨的膜層中ZrO2不同的折射率。我們可以看到和和同次性的膜料相比,折射率有急劇的上升,特別是在中段。ZrO2的另一個缺點是在蒸發是它只是部分的溶解,因此,很難得到均勻的膜厚。
為了減少單體氧化物的這些缺點,可以使用混合氧化物。這些混合料可以根據客戶不同的折射率需要來生產。
德國默克公司根據客戶大量的實際使用情況和多年的膜料生產經驗,研制開發了一系列的混合料:
H1, 高折射率, 2.1-2.15
H2, 高折射率, 2.1-2.15
H4, 高折射率, 2.1-2.15
M1, 中折射率, 1.65-1.7
H1,H2和H4可以被用來生產高折射率的膜層,在250°C的基底上2.1-2.15的折射率具有同次性。M1可
以被用來生產中折射率得膜層。H1,H4和M1也能鍍在未經加熱的基底上,折射率會降低。
H1在從可見光到紫外的波段內有相當高的透過率,在360nm左右有吸收。但是,同ZrO2一樣,無法從溶解的狀態下被蒸發,因此較難得到比較均勻的膜層。
H2在可見光的波段內有很高的透過率,但是在380nm時有截止吸收,這意味著當鍍膜條件不理想時,1/2光學厚度的末曾在400nm時會有0.5%的吸收。H2的優點在于它能從溶解的狀態下被蒸發,因此有良好的同次性和均勻的膜厚。
H4在可見光的波段內有很高的透過率,像H1一樣,在360n左右有吸收。它也能從溶解的狀態下被蒸發,具有良好的同次性和均勻的膜厚。
圖3顯示了用ZrO2(n=2.05)和上述混合料(n=2.15)的3層增透膜的反射曲線得比較。從中可以看出用混合料的有較好的反射曲線。用ZrO2有交寬廣的曲線,但使用混合料在450和590nm時有幾乎為零的反射率。
M1在從近紅外到近紫外的波段內有很高的透過率,在300nm時有吸收。它也能從溶解的狀態下被蒸發,具有良好的同次性和均勻的膜厚。此物質適合于在高折射率的膜層上鍍增透膜。
圖4顯示了在高折射率(n=1.625)的玻璃基底上用Al2O3(n=1.65)和M1(n=1.7)的3層增透膜的反射曲線的比較。從中可以看出用M1的效果要好得多。
我們也可以僅用氧化物來鍍增透膜。圖5顯示了用SiO2(n=1.46)和H4(n=2.15)的膜系,當然膜厚不再是簡單的1/2或1/4光學厚度。有時會需要很薄的膜厚,在膜厚和折射率上微小的變動都會有很大的影響,因此相對于經典的3層膜系來說要難得多。從中可以看出,3層膜在中間波段有最低的反射率,但是4層膜C有著3層膜無法實現的從400到700nm寬廣的低于0.5%的反射率。
用于塑料基底的增透膜
在塑料基底上鍍膜,我們無法在鍍膜過程中加熱基底。因此,我們必須膜料的選擇上倍加小心以確保它能
在低溫下形成穩定的膜層。此外,由于溫度偏低,折射率也隨之變低,因此,相應的膜層設計也要改變。
MgF2不能在低溫下被蒸鍍,因為只有在200°C以上的溫度時它才能形成穩定的膜層。因此,我們只能選擇氧化物來蒸鍍。
我們可以使用下列氧化物:
SiO2 在塑料基底上的折射率為 1.45
Al2O3 1.62
M1 1.65
Y2O3 1.8
ZrO2 1.9
H1 1.95
H4 1.95
TiO2 1.9-2.0
H2不能在低溫下被蒸鍍,因為它在藍光波段有吸收。
最常用的塑料基底是:
CR39 折射率為 1.5
聚碳酸酯 1.59
PMMA 1.48-1.50
圖6顯示了由M1,H4和SiO2組成的3層增透膜的反射曲線,在從390到750nm的波段上的反射率小于1%。同時,一個5層膜也被顯示在圖上作為比較,它的反射曲線在415到680nm的波段上的反射率小于1%,并且在中間波段有相當底的反射率。
圖7顯示了由M1,H4和SiO2組成的3層增透膜在聚碳酸酯基底上的反射曲線,在從390到750nm的波段上的反射率小于1%。同時,一個4層膜也被顯示在圖上作為比較,它的反射曲線的低反射段比較窄,但是在中間波段由相當低的反射率。
小結:
本文中列舉了一些簡單的增透膜,當然還有許多方法可以達到同樣的效果,但這已不是這篇簡短的文章所能包括的。
光學薄膜企業
1 深圳昂納光通訊
2 深圳樂華光通訊
3 深圳菲萊特光電
4 深圳歐菲光通訊
5 東莞信泰光學
6 深圳標信達光電
7 深圳晶石光學
8 深圳宏光納米
9 東莞東源光電
10 東莞高偉光學
11 東莞振業光學
12 上海光機所
13 天津市大成光學公司
14 青島海泰光電
15 上海友盟光電
16 南京愛立光電
17 上海默奧光學薄膜器件有限公司
18 浙江水晶光電
19 晶吉光電科技
20 成都奧林光學薄膜
21 南陽利達光電
22 大連光學儀器廠
23 福州愷星光電技術
24 上海龍寶光學
25 蘇州六六視覺
26 江蘇曙光光電
27 同濟大學精密光學工程技術研究所?
28 上海美能達精密光學
29 新鄉市百合光電
30 飛秒光電科技
31 沈陽匯博光學
32 吉奧馬科技(無錫)
33 浙江舜宇光學
34 上海新產業
35 深圳奧高鍍膜
36 成都奧林光學薄膜實驗室
37 廣州正泰鍍膜
38 東莞東源
39 北京大恒薄膜
40 上海光聯通訊技術
41 成都奧科光學
42 杭州科汀光學
43 福建華科光電
44 廣州奧普鍍膜
45 福建新三捷光電
46 中天光子器件
47 廈門法登光學
48 福州康順
49 福州通產
50 浙江舜宇
51 江蘇吳江市科力真空
52 北京晶源光學鍍膜有限公司
本文發布于:2024-03-01 06:24:21,感謝您對本站的認可!
本文鏈接:http://www.newhan.cn/zhishi/a/1709245462275544.html
版權聲明:本站內容均來自互聯網,僅供演示用,請勿用于商業和其他非法用途。如果侵犯了您的權益請與我們聯系,我們將在24小時內刪除。
本文word下載地址:增透膜詳解.doc
本文 PDF 下載地址:增透膜詳解.pdf
| 留言與評論(共有 0 條評論) |